期刊文献+

等离子体及其应用 被引量:2

The Plasma Technology And Its Application
下载PDF
导出
摘要 本文简要介绍了等离子体的概况、应用及发展前景。 This paper illustrates the survey,appliation and prospects of plasma technology.
作者 蒋莉 樊芷芸
出处 《惠州大学学报》 2000年第4期42-45,共4页 Journal of Huizhou University
关键词 低温离子体 高温等离子 应用 纺织工业 材料膜工业 电子工业 金属表面改性 Low-temp Plasma,High-temp plasma,Application
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献7

  • 1筏羲人,高分子表面的基础和应用,1990年
  • 2朴东旭,现代化工,1985年,3卷,20页
  • 3克拉克 D T,聚合物表面,1985年
  • 4Zhu A M,J Nat Gas Chem,1999年,8卷,1期,47页
  • 5朱爱民,博士学位论文,1998年
  • 6朱爱民,化学通报,1997年,9卷,25页
  • 7Huang J,J Phys Chem,1993年,97卷,37期,9403页

共引文献28

同被引文献25

引证文献2

二级引证文献2

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部