软X射线分光法和硅化合物
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1潘建根,岳红轩,沈海平,王万良.分光法测量LED颜色的不确定度分析[J].光电子．激光,2008,19(2):149-151. 被引量：6
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2竹中亭,江涛.评价有机薄膜方向性的红外分光法[J].红外,1990(2):32-34.
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3曹博,包良满,李公平,何山虎.Cu/SiO_2/Si(111)体系中Cu和Si的扩散及界面反应[J].物理学报,2006,55(12):6550-6555. 被引量：7
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4张民,季诚响,韩荣生,王志敏.锰硅化合物Mn4 Si7能带结构的研究[J].装甲兵工程学院学报,2006,20(3):84-89. 被引量：6
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5阪井清美.兆兆赫（亚毫米波）区域的新分光法,相干时间畴光谱学（TOS）[J].红外,1993(1):28-30.
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6张慧云,陈宜保.锰硅化合物的制备及塞贝克效应[J].材料科学与工艺,2008,16(3):427-429. 被引量：3
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7郭辉,张义门,张玉明.Ti-Al based ohmic contacts to n-type 6H-SiC with ion implantation[J].Chinese Physics B,2006,15(9):2142-2145. 被引量：2
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8曹博,包良满,李公平,何山虎.Cu/SiO_2/Si(100)体系中Cu和Si的扩散和界面反应[J].真空与低温,2006,12(3):137-141. 被引量：1
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9曾宇昕,程国安,王水凤,肖志松.低束流钕离子注入外延硅薄层的结构研究[J].核技术,2003,26(11):823-826.
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10魏玮.色度学与希尔伯特空间[J].哈尔滨理工大学学报,1998,3(2):97-100.
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