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氢化物发生技术中化学干扰的研究进展 被引量:76

PROGRESS OF CHEMICAL INTERFERENCE STUDY IN HYDRIDE GENERATION TECHNIQUE
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摘要 引言在氢化物发生技术与原子光谱分析方法的结合中,基体元素的干扰效应可分为二类:(1)在还原过程中氢化物生成效率的改变引起的干扰;(2)已被还原为氢化物的元素在原子化过程中形成稳定化合物而引起的干扰。可统称为化学干扰。在氢化物发生原子吸收光谱分析中,这二类干扰都是比较显著的。当使用感耦等离子体作激发光源时,由于等离子体的温度很高。 Chemical interference is the main obstacle in application of hydride generation technique. Many attempts have been made to investigate the interference. In this paper, recent progresses of chemical interference study in hydride generation technique are reviewed. Several proposed interference mechanisms were compared and discussed. It would be helpful to make the interference mechanism clear. Some problems related to interference and its elimination were also summurized.
出处 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第2期68-76,共9页 Spectroscopy and Spectral Analysis
  • 相关文献

参考文献10

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  • 3张卓勇,1988年
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  • 9郭小伟,原子光谱分析,1981年,3期,1页
  • 10Chan F L,Anal Chim Acta,1965年,33卷,36页

二级参考文献3

  • 1张卓勇,分析化学,1987年,15卷,9期,801页
  • 2郑毅,分析化学,1987年,15卷,11期,966页
  • 3滕藤,溶剂萃取化学,1981年

共引文献6

同被引文献443

引证文献76

二级引证文献420

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