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满足HDI分辨率和对位度要求的曝光机
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摘要
随着高密度互连(HDI)应用的不断扩大,分辨率和定位度已成为电路制造厂家面临的重大挑战。高密度互连要求分辨率和定位度两者具有更高的精确度。IPC 技术发展规划表明,到2007年,要求公差有5倍的改进,从而要求成像技术应有显著改进。此外,全球化和工业联合趋势也要求任何改进技术必须能够提供高产量和生产经济性。开发出的新技术应使电路制造厂家能够满足未来印刷电路板的各种要求。
作者
欧家忠
出处
《印制电路信息》
2000年第12期16-17,共2页
Printed Circuit Information
关键词
HDI分辨率
曝光机
对位度
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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1
Ben - Ezra, B, "Meeting the Challenges of Direct Imaging for Cost - effective productin", Circuitree, June 1998,108.
1
武世香,邹斌,陈士芳.
一种新型接触式双面对版曝光机[J]
.电子工业专用设备,1994,23(2):48-51.
被引量:2
2
李忠涛,王国荃.
电子束曝光机的电子束特徵测试[J]
.上海半导体,1989(3):26-28.
3
郑国强.
电子束直接曝光机简介[J]
.微细加工技术,1995(3):72-76.
被引量:1
4
严方,陈振宣,武时勉.
可调抛光型光纤耦合器对位公差的分析[J]
.光学学报,1989,9(9):810-814.
被引量:1
5
王国荃,罗腾蛟,陈福余,徐志如.
对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析[J]
.微细加工技术,1992(1):1-6.
被引量:1
6
Dr.Michael Lauterbach,徐执模.
对位晃动进行模拟来查找误码[J]
.微电子测试,1995,9(3):38-39.
7
庄炳河.
DB—5型光栅扫描电子束曝光机真空系统[J]
.微细加工技术,1991(1):46-50.
被引量:1
8
康念坎,江钧基,吴伟,黄兰友,吴明均.
变形电子束曝光机成形偏转器的设计和性能[J]
.电子科学学刊,1990,12(2):161-168.
被引量:1
9
李国喜,徐恭文.
自动套刻仪(AUR)对位标记腐蚀工艺研究[J]
.江南半导体通讯,1991,19(6):33-34.
10
黄志远,张建军,梁四连,杨小健,王泽宇,朱萌,何为.
高精密度平行光曝光机图形转移技术[J]
.印制电路信息,2012,20(3):34-36.
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