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第三届液晶光子学国际会议

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摘要 热烈欢迎您参加在中国上海举行的第三届液晶光子学国际会议。在中国国家科学技术部973计划、国家自然科学基金委、美国光学学会OSA、国际信息显示学会SID的支持下,“第三届国际液晶光子学会议”将于2014年4月19日--20日在上海市召开。本次会议将为液晶光子学领域的国际同行提供一个专业交流平台,为国内学者及业界同仁提供一个与国际著名专家面对面进行深入交流的良好机会。
出处 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期250-250,共1页 Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays
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