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华大九天联手MunEDA布局20nm设计移植优化方案

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摘要 20nm节点将是半导体产业生态圈的分水岭和转折点,它不仅带来半导体设备、光刻技术、封测技术等领域的诸多挑战,更对电子设计自动化(EDA)工具提出了革新性的需求。
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期253-253,共1页 Semiconductor Technology
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