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华大九天联手MunEDA布局20nm设计移植优化方案
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摘要
20nm节点将是半导体产业生态圈的分水岭和转折点,它不仅带来半导体设备、光刻技术、封测技术等领域的诸多挑战,更对电子设计自动化(EDA)工具提出了革新性的需求。
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期253-253,共1页
Semiconductor Technology
关键词
电子设计自动化
优化方案
移植
光刻技术
半导体产业
半导体设备
分水岭
生态圈
分类号
TN702 [电子电信—电路与系统]
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半导体技术
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