摘要
用X射线光电子能谱 (XPS)研究新鲜Nd表面在不同氧气和空气进气量的情况下 ,表面氧化物的生长过程 .发现氧化层由氧化物、氢氧化物及表面化学吸附水三种成分 ,这三种成分的增加与进气量都存在正比对数关系 ,氧化物和吸附水在一定进气量后趋于饱和 ,而氢氧化物持续不断增加 ,最终氢氧化物占据主要地位 .
X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) has been used to follow oxide film growth on pure Nd surface over a wide range of exposure to oxygen and air. Oxide film was noticed to consist of oxide, hydroxide and chemically absorbed water, all of which exhibited logarithmic-type growth kinetics. The oxide and chemically absorbed water stop growing after a certain exposure, whereas the hydroxide,which plays a significant role ultimately, shows continued and persistent growth.
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期79-82,共4页
Acta Physica Sinica
基金
国家高技术研究发展计划!(批准号 :86 3 410 3 9)资助的课题&&
