利用CF4／O2大气压辉光放电等离子体的Si基材料的干蚀刻特性
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1马民.CF4／H2rf放电等离子体的诊断和加工[J].等离子体应用技术快报,1998(5):16-17.
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2SUNJin-Feng,TANXiao-Ming,LIUYu-Fang,SHIDe-Heng.Total Cross Sections for Electron Scattering from CF4, CF3H, CF2H2, and CFH3 Molecules in Energy Range from 100 to 3000 eV[J].Communications in Theoretical Physics,2004,42(2X):267-270.
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3张树东,李海洋.激光烧蚀Al热原子与CF_4反应中C_2的形成及其发光光谱研究[J].物理学报,2003,52(5):1297-1301. 被引量：3
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4孙冰,张连政,朱小梅,蔡思萌.微波等离子体与Ag/Al_2O_3催化剂协同降解CF_4的机理[J].河北大学学报（自然科学版）,2010,30(5):525-529.
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5吕英,庞爱锁,杨伟锋,陈厦平,朱会丽,吴正云.不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究[J].福州大学学报（自然科学版）,2007,35(S1):8-10.
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6曾明刚,陈松岩,林爱清,邓彩玲,蔡贝妮.用XPS法研究硅基硫化锌薄膜[J].半导体技术,2005,30(2):17-20.
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7施德恒,刘玉芳,孙金锋,杨向东,朱遵略.A New Semi-Empirical Method for Total Cross Sections of Electron Scattering from Spherical Polyatomic Molecules at 30-5000 eV[J].Chinese Physics Letters,2004,21(9):1734-1736.
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8刘旺,董玮利,赵舒燕,陈鑫,李春,林海,曾繁明.Ho:BaY_2F_8晶体生长与荧光特性[J].长春理工大学学报（自然科学版）,2015,38(6):83-86.
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9郑培超,刘克铭,王金梅,代玉,郝宏刚.大气压液体阴极等离子体的电学特性[J].高电压技术,2011,37(10):2530-2535. 被引量：4
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10赵雷,陈涌海,左玉华,王海宁,时文华.偏振差分反射光谱研究半导体材料的平面内光学各向异性[J].光谱学与光谱分析,2006,26(7):1185-1189. 被引量：2
