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浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)的曝光
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摘要
本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中,对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景。
作者
李春甫
邵磊
机构地区
北京力拓达科技公司
出处
《印制电路与贴装》
2001年第1期24-29,共6页
关键词
湿膜
曝光
光成像抗蚀抗电镀油墨
印刷电路板
分类号
TN410.57 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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