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中芯国际举办第六届技术专题研讨会

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摘要 中芯国际集成电路制造有限公司日前在上海举办了第六届年度技术专题研讨会,推广其最新的先进及特色工艺平台。会上,中芯国际公布了28纳米和40纳米等先进工艺取得的最新成就和重要进展,以及基于特殊工艺如eNVM、PMIC、RF、IoT、MTE(成熟技术优化)等项目的新特色产品。
作者 张一鸣
出处 《集成电路应用》 2014年第6期45-45,共1页 Application of IC
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