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PWB用曝光机的动向

Trend of Exposure Machine for PWB
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摘要 1 PWB现状 随着BUM基板的问世,正在加速PWB细线化的进程.携带电话等电子机器业已发展到高性能化和高密度化,为了适应高密度化的PWB制造,必须有高性能化的曝光机与之匹配,必须开发包括光致抗蚀剂在内的曝光体系.本文就细线化涉及的内容和相应的曝光机加以叙述.
作者 蔡积庆
出处 《印制电路信息》 2001年第3期23-25,共3页 Printed Circuit Information
关键词 PWB 曝光机 微电子
  • 相关文献

参考文献4

  • 1日本エアロゾル学会セミナキスト,P36-39.1994
  • 2工业调查会,"フオトマスク技术のはなし"
  • 3工业调查会.月刊誌:电子材料,1999,10.
  • 4棒一德,エレクロニクス实装技术,2000.06

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