摘要
本文应用表面分析技术研究HL-1装置中SiC涂层的等离子体辐照性能。结果表明,SiC材料应用于孔栏和壁涂层有利于减少杂质和提高等离子体品质。
In this paper,the plasma exposure performance of SiC coating is studied by surface analysis. The results show that SiC coated on limiter and wall can reduce impurities and enhance the plasma performance.
出处
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第4期240-245,共6页
Nuclear Fusion and Plasma Physics
基金
国家自然科学基金
