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用于监控低压渗碳的传感器
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摘要
在法国开发了一种用于真空炉上的传感器,它可以确定气氛的渗碳能力,帮助热处理工作者优化渗碳气体的组份.20世纪80年代末以来,已经采用反馈控制气氛的渗碳热处理,其中许多方法是靠传感器来监控一定气氛压力下的碳势.当渗碳过程发生温度或压强下降等故障,控制程序就会介入,改变工艺时间和调节气氛的组成.采用这种系统可以使产品质量更均匀一致.
作者
罗晨光
机构地区
北京前甫公司
出处
《国外金属热处理》
2001年第2期34-35,共2页
Heat Treatment of Metals Abroad
关键词
监控
低压渗碳
真空炉
传感器
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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国外金属热处理
2001年 第2期
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