期刊文献+

CVD金刚石膜的抛光技术 被引量:5

Polishing Techniques of CVD Diamond Films
下载PDF
导出
摘要 高的表面粗糙度和厚度的不均匀性影响了 CVD金刚石膜的应用 ,而抛光可以减少这些缺点。近年来 ,发展了许多 CVD金刚石膜的抛光技术 ,而且不同的抛光技术都有其优缺点。本文总结了 CVD金刚石膜的各种抛光技术及其特点 ,并提出了一种新的抛光技术。 Chemically vapor-deposited(CVD) diamond films have rough surface and non-uniform thickness which can adversely affect their application.Polishing can be used to remedy these drawbacks.In recent years,many polishing techniques have been reported,each having technological advantages and disadvantages.Polishing techniques and their characters are reviewed in this paper.A new set-up thermochemical polishing of CVD diamond films has been developed.
机构地区 北京科技大学
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期15-18,共4页 Surface Technology
关键词 CVD 金钢石膜 抛光 化学气相沉积 机械抛光 化学抛光 Diamond films Polishing Chemical vapor deposition
  • 相关文献

参考文献23

  • 1[1]Pierson H O. Handbook of carbon,Graphite,Diamond and fullerene: Properies,Properties,Processing and application.Noyes,Park Ridge,NJ,1993.
  • 2[2]Eversole W J.US patent 3030188,April 1962.
  • 3[3]Kuribara K, Sasaki K,Kawarada M,et al.Appl.Phs.Lett,1988,52:437
  • 4[4]Kamo M,Sato Y,Matsumoto S,et al.J.Cryst,Growth.1983,62:642
  • 5[5]Suzuki H,Matsubara H,Horie N.J.Jpn.Soc.Power,Metall,1986,33:281
  • 6[6]Tzeng Y,Cutshaw C et al. Appl.Phs.Lett.1990,56:134
  • 7[7]Yoshikawa M. Diamond Optics Ⅲ.SPIE,1990,1325:21
  • 8[8]Malshe A P,Brown W D,Nassem H A et al.US patent 5725413 1998
  • 9[9]Ozkan A M, Malshe A P, Brown W D.Diamond Rlat,Mater.,1997.6: 1789
  • 10[10]Hirata A, Tokura H, Yashigawa M. Thin solid films,1992,212:43

同被引文献41

引证文献5

二级引证文献45

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部