近代低温FT—R技术及其在半导体分析中的应用
-
1胡刚,陈一,谢锋,刘剑霜,朱烨.SEM与TEM半导体分析的比较[J].集成电路应用,2003,20(3):51-52.
-
2杨德仁,阙端麟.高温退火硅单晶中氧和氮杂质性质[J].Journal of Semiconductors,1996,17(1):71-75. 被引量:4
-
3邓永和,唐世洪,谭子尤,张勇华,梁平原,曾庆立.掺杂离子对O_3气敏元件的性能改善[J].电子与封装,2002,2(1):34-37.
-
4徐乾豹,唐建毅,徐南华.JXA-733电子探针特殊故障分析[J].实验室研究与探索,1997,16(3):69-71.
;