微蚀刻溶液:过硫酸盐的化学比较

下载PDF

导出

摘要由于更精细的线宽/间距、更薄的芯子材料和增加层数,使今天的 PCB 越来越增加其复杂化了。当电路的导线和间距达到微米级时,印制电路板制造工艺要求微蚀刻溶液应是可控制的。从而使生产达到适宜的等级和清洁,并保证表面调整达到合适的连结(bonding)要求而没有过蚀刻问题。微蚀刻是一种湿化学加工。

作者 DR.Mancy D.Arabinick 丁志廉

出处《印制电路信息》 2000年第6期42-45,共4页 Printed Circuit Information

关键词微蚀刻溶液过硫酸盐印制电路板

1黄玉文.印制板生产中过硫酸盐微蚀液的分析调整和维护[J].印制电路信息,2005,13(10):31-31.
2Ansin推出新型微蚀刻剂DZA200/DZA100[J].印制电路资讯,2009(4):60-60.
3吴水清.碱性氯化铜蚀刻机同类产品技术参数分析[J].电子工业专用设备,1989(1):19-23.
4陈苑明,何为,黄志远,黄同彬,王伟,朱萌,王泽宇.电镀式半加成法制作精细线路的研究[J].电镀与精饰,2012,34(7):5-8. 被引量：7
5程亮,田永涛,智钢,马姗姗,吴黎红,冯飞,贾河顺,张迎九,李新建.多孔氧化铝模板在酸性和碱性介质中的腐蚀过程[J].材料导报,2010,24(6):36-38. 被引量：1
6李维刚,刘大山,杨永杰.FeCl_3腐蚀溶液再生应用的研究[J].天津化工,1999,13(3):31-32. 被引量：2
7刘汉忠.硫酸蚀刻溶液中InP半导体之薄膜生长（英文）[J].南通大学学报（自然科学版）,2013,12(4):57-61.
8王荣秋,李经建,陈泳,汤鸣,王宇,蔡生民,刘忠范.Quantum confinement effect in electroluminescent porous silicon[J].Science China Chemistry,1998,41(4):337-344.
9霍鑫,潘石,吴世法.Fabrication of Pure Silica Core Multimode Ultraviolet Optical Fibre Probes by Tube Etching[J].Chinese Physics Letters,2007,24(10):2876-2878.
10姜胜林,曾亦可,刘少波,刘梅冬.Si基片各向异性腐蚀特性研究[J].华中科技大学学报（自然科学版）,2003,31(10):22-25. 被引量：2

印制电路信息

2000年第6期

浏览历史

内容加载中请稍等...