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VLSI塑封料用高纯度合成二氧化硅
被引量:
1
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摘要
粉状二氧化硅(俗称硅微粉)是应用十分广泛的填料。在半导体塑封料中,二氧化硅的含量高达60~70%(重量)。使用大量二氧化硅填料的原因,不仅仅是为了降低产品成本,主要是为了降低塑封料的线性热膨胀率,减少塑封料因收缩产生的应力,避免发生内引线断丝,使集成电路(IC)能正常工作。
作者
丁建良
机构地区
无锡化工研究设计院
出处
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第12期30-33,共4页
New Chemical Materials
关键词
VLSI
塑封料
二氧化硅
集成电路
分类号
TQ127.2 [化学工程—无机化工]
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化工新型材料
1991年 第12期
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