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全介质窄带滤光片膜厚均匀性分析 被引量:1

Research on the Uniformity of All-dielectric Narrow Band Filter′s Layer Thickness
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摘要 对全介质窄带滤光片镀制时因基片位置不同引起的透射率曲线的变化进行了分析 ,得出了其透射率曲线形状基本保持不变仅中心波长发生偏移的结论 .根据所得的结论 ,提出了用于DWDM光纤通信系统的滤光片的实际镀制的改进方案 . The change of the transmittance curve of the all dielectric narrow band filter caused by the substrate position difference is analyzed. The conclusion is that the shape of the transmittance curve has been basically holding the line with the center wavelength deviation. According to the conclusion, the practice coating project of the filter used in the DWDM optical fiber communication system is improved.
出处 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期54-56,共3页 Journal of Huazhong University of Science and Technology(Natural Science Edition)
基金 国家自然科学基金资助项目 (195 740 17)
关键词 全介质窄带滤光片 均匀性 中心波长 透射率 透射率 WDM光纤通信系统 薄膜 all dielectric narrow band filter uniformity center wavelength
  • 相关文献

参考文献6

  • 1唐晋发 顾培夫.薄膜光学与技术[M].北京:机械工业出版社,1987..
  • 2张晓晖.光纤通信用光学薄膜器件的研制:博士学位论文[M].武汉:华中科技大学激光技术国家重点实验室,2000..
  • 3张晓晖,博士学位论文,2000年
  • 4孙学军,DWDM传输系统原理与测试,2000年
  • 5林永昌,光学薄膜原理,1990年
  • 6唐晋发,薄膜光学与技术,1987年

共引文献15

同被引文献7

引证文献1

二级引证文献14

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