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铜及其合金化学抛光新工艺 被引量:6

A new chemical polishing process for copper and its alloy
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摘要 研制出一种铜及其合金化学抛光新工艺。在传统的硫酸抛光液中加入一种淡绿色的粉末晶体。介绍了该抛光液的配制 ,研究了温度、基体材料对抛光效果的影响。结果表明 ,该工艺抛光速度快、腐蚀性低、无黄烟、环境污染小、成本低。 A new chemical polishing process for copper and its alloys was advanced which is composed of traditional sulfuric acid solution and a light green powder crystal. Preparation of the polishing solution was described. The effects of temperature, base materials on polishing results was studied. The results show that the process has strength such as fast rate of polishing, low corrosivity, no yellow fume produced, light environmental pollution and low cost.
作者 陈毅侯
机构地区 西安高压电瓷厂
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2001年第2期22-23,52,共3页 Electroplating & Finishing
关键词 铜合金 化学抛光 硫酸 抛光液 copper copper alloy chemical polishing
  • 相关文献

参考文献11

  • 1-.化工辞典[M].燃料化学工业出版社,1973..
  • 2美弗利德里克 A洛温海姆.现代电镀[M].机械工业出版社,1982..
  • 3曾华梁 等.电镀工艺手册[M].机械工业出版社,1991..
  • 4邓舜扬.化学配方集锦[M].化学工业出版社,1995..
  • 5-.金属表面及处理(专利文献通报)[M].,1983..
  • 6曲敬信,表面工程手册,1998年
  • 7邓舜扬,化学配方集锦,1995年
  • 8曾华梁,电镀工艺手册,1991年
  • 9专利文献通报.金属表面及处理,1983年
  • 10弗利德里克,现代电镀,1982年

共引文献7

同被引文献63

引证文献6

二级引证文献26

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