出处
《世界科学》
1998年第11期2-6,共5页
World Science
同被引文献11
-
1王守觉.连续逻辑为电子线路与系统提供的新手段[J].电子学报,1986,14(5):1-11.
-
2[7]Collinge J P. SOI Technology: Materials to VISL[M]. Boston: Kluwer Academic Pub,1991.12.
-
3[6]Green M L, Sorsch T W, Timp G L et al. Microelectron. Eng. 1999.48:25.
-
4[8]Collinge J P.SOI Technology: Materials to VISL. Kluwer Academic Pub. 1991.12.
-
5[9]Xie Y H. Materials Science and Engineering, 1999.25:89.
-
6[11]Burggraaf P. Solid State Technology.2000.43:31.
-
7王阳元,韩汝琦,刘晓彦,康晋锋.硅微电子技术物理极限的挑战[J].电子学报,1998,26(11):77-84. 被引量：7
-
8刘洪图,吴自勤.超大规模集成电路的一些材料物理问题(I)——Cu互连和金属化[J].物理,2001,30(12):757-761. 被引量：6
-
9刘洪图,吴自勤.超大规模集成电路的一些材料物理问题(Ⅱ)──尺寸缩小带来的巨大挑战[J].物理,2002,31(1):11-16. 被引量：3
-
10谢欣云,林青,门传玲,安正华,张苗,林成鲁.SOI新结构——SOI研究的新方向[J].物理,2002,31(4):214-218. 被引量：4
-
1苏宇贵.微电子技术与空调机制造业[J].制冷,1993(1):13-15.
-
2朱福林.微电子技术在我厂技术改造中的应用[J].机械工业自动化,1990(3):57-58.
-
3Nowot.,S,王剑锋.制冷和空调领域微电子技术及其应用的最新进展[J].宝成技术,1993(1):26-35.
-
4杨叔子.现代工程技术的发展态势[J].工具展望,2000(1):1-3.
-
5纳米科技应用前景[J].决策咨询（安徽）,2001(1):28-28.
-
6杨叔子,易传云.现代工程技术发展的态势与我们的策略[J].世界科技研究与发展,1997,19(4):29-36. 被引量：2
-
7蔡新安,陈伟光,徐荣干.纳米科技及其应用[J].景德镇高专学报,2002,17(2):35-38.
-
80.1μm器件以后的SR缩小光刻[J].光机电信息,1999,16(8):31-32.
-
9国防科技工业微电子一级计量站[J].计算机与数字工程,2010,38(9).
-
10揭峰.PVDF压电膜传感器的应用分析[J].无线互联科技,2013,10(1):156-157. 被引量：3
;
