摘要
CdTe不仅是制作核辐射探测器的重要材料,而且还可用来制作太阳能电池,是外延Hg1-zCdzTe的理想衬底。由于很难获得大块完美的单晶,为此,人们对CdTe单晶外延层的生长进行了广泛的研究。 热壁外延(Hot Wall Epitaxy,缩写为HWE)是一种真空沉积薄膜的方法。其主要特点是在蒸发源和衬底之间加了一个套筒,并加热,成为热壁。目的在于能生长出完美的单晶外延层,形成一个很接近热力学平衡的沉积系统,迫使从蒸发源出来的原子或分子指向衬底。
The present paper covers a simple HWE apparatus and the technology of using this apparatus to grow CdTe single crystal epilayers on GaAs(100) plane. The analyses of scanning electron microscope, X-ray diffraction and PL spectra show that the epilayer of CdTe single crystal is perfect. The interface between CdTe and GaAs was analysed by XPS.
出处
《吉林大学自然科学学报》
CAS
CSCD
1991年第1期51-54,共4页
Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
关键词
单晶
薄膜
热壁外延
CDTE
真空沉积
CdTe single crystal film, Hat wall epitaxy, SEM, X-ray diffraction, PL-spectra, XPS