期刊文献+

CdTe单晶薄膜的热壁外延 被引量:1

CdTe Single Crystal Film Grown by HWE
下载PDF
导出
摘要 CdTe不仅是制作核辐射探测器的重要材料,而且还可用来制作太阳能电池,是外延Hg1-zCdzTe的理想衬底。由于很难获得大块完美的单晶,为此,人们对CdTe单晶外延层的生长进行了广泛的研究。 热壁外延(Hot Wall Epitaxy,缩写为HWE)是一种真空沉积薄膜的方法。其主要特点是在蒸发源和衬底之间加了一个套筒,并加热,成为热壁。目的在于能生长出完美的单晶外延层,形成一个很接近热力学平衡的沉积系统,迫使从蒸发源出来的原子或分子指向衬底。 The present paper covers a simple HWE apparatus and the technology of using this apparatus to grow CdTe single crystal epilayers on GaAs(100) plane. The analyses of scanning electron microscope, X-ray diffraction and PL spectra show that the epilayer of CdTe single crystal is perfect. The interface between CdTe and GaAs was analysed by XPS.
出处 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1991年第1期51-54,共4页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
关键词 单晶 薄膜 热壁外延 CDTE 真空沉积 CdTe single crystal film, Hat wall epitaxy, SEM, X-ray diffraction, PL-spectra, XPS
  • 相关文献

参考文献2

  • 1王跃,红外技术,1987年,9卷,4期,10页
  • 2唐国文,红外与毫米波学报,1987年,6卷,2期,151页

同被引文献9

  • 1Yang Yukun,Infrared Phys Technol,1997年,38卷,9页
  • 2Yang Yi,J Cryst Growth,1996年,158卷,455页
  • 3Yang Yukun,J Cryst Growth,1996年,165卷,70页
  • 4杨玉琨,辽宁大学学报,1996年,23卷,26页
  • 5杨玉琨,半导体学报,1995年,16卷,594页
  • 6杨玉琨,真空科学与技术学报,1995年,15卷,343页
  • 7杨玉琨,发光学报,1992年,13卷,249页
  • 8Yang Yukun,红外与毫米波学报,1991年,10卷,63页
  • 9杨玉琨,物理,1990年,19卷,494页

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部