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由超高密度单相靶优化制备ITO薄膜 被引量:2

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摘要 本文讨论了对与ITO膜导电与透射机理有关的浅射靶基本原则,并说明了制造靶的一种新型全集成工艺,该工艺可以确保优异、高溅射再生特性。靶具有超高均匀密度,并且能够与ITO薄膜的晶体结构、电荷载体密度及氧化学计量相匹配。
作者 季旭东
出处 《光电技术》 2001年第3期40-43,23,共5页
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