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21世纪微电子光刻技术 被引量:4

Optical lithography application to the microfabrication of microelectronics in the 21st century
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摘要 介绍了248nm,193nm。 The development process of 248nm,193nm,157nm technologies is described in this paper,as well as the application prospect of NGL technologies is introduced.
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第10期47-51,73,共6页 Semiconductor Technology
关键词 准分子激光投影光刻 X射线光刻 极紫外光刻 电子束投影光刻 离子束投影光刻 微电子 光刻技术 Excimer projection lithography: x-ray lithography: EUV lithography: E-beam lithography ion beam lithography
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引证文献4

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