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高温淬火对GaAs中深施主缺陷的影响

Effects of Quenching on Deep Donor Defect EL_2 in GaAs
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摘要 研究了1 120℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘LECGaAS中 EL2浓度的影响.发现真空条件T,在1120℃热处理2h~8h并快速冷却后,样品中EL2浓度下降近一个数量级,提高高温过程中的 AS压,可抑制 EL2浓度的大幅下降. The effects of quenching on EL2 concentration have been investigated for undoped semi-insulating LECGaAs. It is found that EL2 concentration can be decreased by about one order magnitude after vacuum annealing at 1120'C for 2 h ~ 8 h following by a fast cooling. The decrease in EL2 concentration can be suppressed by increasing As pressure during annealing.
出处 《河北工业大学学报》 CAS 2001年第1期67-69,共3页 Journal of Hebei University of Technology
基金 河北省自然科学基金资助项目!(195051)
关键词 非掺杂半绝缘LECGaAs 高温粹火 EL2浓度 AS压 砷化镓 深施主缺陷 集成电路 砷压 undoped send-insulating GaAs: quenching EL2 concentration As pressure: suppression
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参考文献1

二级参考文献1

  • 1杨瑞霞,稀有金属,1988年,7卷,46页

共引文献6

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