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投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究 被引量:1

An Investigation on Pressure-Vacuum Balance Air-Foot of Positioning Stage for Wafer Stepper
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摘要 主要介绍投影光刻机工件台的压力 -真空平衡气足设计 ,对压力 -真空平衡气足的径向压力分布、最大刚度、最佳气膜间隙以及承载能力进行了分析 。 The design and calculation of the pressure-vacuum balance air-foot of positioning stage for wafer stepper are introduced.Its radial distribution of pressure,maximum rigidity,best air-film gap and loading capacity are analyzed.Optimum structure parameters of air-foot are given.
出处 《微细加工技术》 2001年第4期33-35,共3页 Microfabrication Technology
关键词 投影光刻机 压力-真空平衡气足 优化设计 工件台 微电子 wafer stepper pressure-vacuum balance air-foot optimum design
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