摘要
合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂 ,采用同步辐射装置X射线深度曝光 ,可得到深宽比 4 5~ 90 ,深度大于 4 50微米 ,细线宽 5~ 1
The PMMA resist used in LIGA microfabrication is synthesized.The lithographic patterns with line width of 5~10μm,height of over 450μm and the aspect ratio of 45~90 are obtained by deep exposure using X ray from synchrotron radiation device.
出处
《微细加工技术》
2001年第4期36-38,43,共4页
Microfabrication Technology
基金
国家基金委资助项目 (5 94 730 11)