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PtSi/p-Si异质薄膜研究的新进展

New progress in research on PtSi/p-Si heterogenous films
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摘要 综述了 Pt Si/p- Si异质薄膜近年来研究的新进展 ,包括 Pt Si/p- Si的制备工艺、相形成与分布、Pt Si/p- Si界面的微结构、价电子结构以及 Pt Si/p- Si肖特基势垒的研究现状 ,并且探讨了 Pt Si/p- Si的发展方向。 In this paper,new progress in research on PtSi/p Si heterogenous films is reviewed,including the preparing techniques,phase formation and distribution,microstructure and valence electronic structures of the interface,Schottky barrier height of PtSi/p Si.Some viewpoints for development direction of PtSi/p Si in future are discussed.
作者 李雪 殷景华
机构地区 哈尔滨理工大学
出处 《半导体情报》 2001年第5期22-27,共6页 Semiconductor Information
关键词 异质薄膜 微结构 PTSI/P-SI 半导体材料 heterogenous film microstructure valence electronic Schottky barrier height
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