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1.0μm InP工艺技术为达到OC-768的性能创造了条件

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摘要 以制造先进IC著名的Vitesse Semiconductor公司(位于加州的Camarillo),成功地开发了一项新技术。采用这项新技术,可以以超过40Gb/s的速度传输数据。这项技术采用1.0μm工艺技术制造铟磷(InP)异质结双极晶体管(HBT),并以此为基础制造网络物理层所需要的IC。这些IC可以应用于SONET OC-768。
出处 《今日电子》 2001年第9期3-3,共1页 Electronic Products
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