期刊文献+

CVD异质外延金刚石膜最新研究进展 被引量:2

Latest Research and Development of Heteroepitaxial Diamond Film by Chemical Vapor Deposition
下载PDF
导出
摘要 评论了国内外化学气相沉积的异质外延金刚石膜制备技术、性质表征以及应用和展望。 The major aspects of the recent development in the growth, characterization and applications of the hetero epitaxial diamond films by chemical vapor deposition were reviewed.
出处 《真空电子技术》 2001年第5期29-33,共5页 Vacuum Electronics
基金 国家自然科学基金资助项目 (1990 40 16)
关键词 异质外延 金刚石膜 化学气相沉积 Hetero epitaxial Diamond films Growth and characterization Chemical vapor deposition
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献15

  • 1王万录,X.Jiang,C.P.Klages.金刚石膜压阻效应的研究[J].科学通报,1994,39(22):2035-2037. 被引量:4
  • 2王万录,物理学报,1996年,45卷,10期,1771页
  • 3Chen Q,Appl Phys Lett,1995年,13卷,1853页
  • 4王万录,Chin Phys Lett,1994年,11卷,589页
  • 5Jiang X,Phys Rev,1994年,50卷,8402页
  • 6Jiang X,Diamond Relat Mater,1993年,2卷,1112页
  • 7Jia C L,Phys Rev B,1995年,52卷,7期,5184页
  • 8王万录,Appl Phys A,1997年,65卷,241页
  • 9Chen Q,Appl Phys Lett,1996年,68卷,2450页
  • 10王万录,Appl Phys Lett,1996年,69卷,8期,1086页

共引文献9

同被引文献4

引证文献2

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部