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金刚石膜和氢化非晶碳膜电阻率测量的对比研究

Comparion Research of Measurement of Resistansity for Diamond Film and a-C:H Film
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摘要 对金刚石膜和氢化非晶碳膜的电阻率测试方法进行了对比研究 .即对金刚石膜采用“大”尺度电极 ,氢化非晶碳膜采用“大”尺度电极和小尺度电极测量I-V曲线进行对比分析和讨论 。 The measure method of resistansity of diamond film and a-C:H film are compared in this work. Large criterion electrode is applied to diamond film and both large and small criterion electrodes are applied to a-C:H film. The result of measurement of I-U curve is studied and discussed and significant outcome is derived.
出处 《首都师范大学学报(自然科学版)》 2001年第4期20-22,30,共4页 Journal of Capital Normal University:Natural Science Edition
基金 北京市自然科学基金资助项目 2 982 0 11
关键词 金刚石膜 氢化非晶碳膜 电极测量 电阻率 金属-半导体-金属结构 电学性能 I-V特性曲线 Diamond film a-C:H film, Electrode resistansity rate, Metal semiconductor metal structure.
  • 相关文献

参考文献8

二级参考文献7

  • 1何宇亮,非晶态半导体物理学,1989年
  • 2陈光华,半导体学报
  • 3张文军,J Mater Res,1995年,10卷,2350页
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  • 5Zhang F,Mater Lett,1994年,19卷,115页
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共引文献11

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