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聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究 被引量:7

A study on the chemical etching of polypropylene nuclear track membrane
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摘要 探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响 ;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾浓度、硫酸浓度、蚀刻温度的数学关联式 ;并选择一定的蚀刻条件对辐照过的聚丙烯膜进行蚀刻 ,得到了预期孔径的聚丙烯核孔膜。 The chemical etching techniques of polypropylene (PP) nuclear track membrane were studied. The effects of potassium dichromate concentration, sulfuric acid concentration, etching temperature and etching time on the bulk etching rate of PP nuclear track membrane were discussed. A mathematical relation has been established. Under certain etching conditions, the expected PP nuclear track membranes were made by etching the irradiated PP membrane, affirming the mathematical relation.
出处 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期36-40,共5页 Nuclear Techniques
关键词 核孔膜 聚丙烯 基体蚀刻速率 化学蚀刻工艺 蚀刻剂 塑料薄膜 重离子照射 Nuclear track membrane, Polypropylene, Bulk etching rate
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献2

  • 1朱天成,Nucl Tracks Radiat Meas,1988年,15卷,1/4期,771页
  • 2张泉荣,新技术研究与应用,1990年,3卷,1页

共引文献8

同被引文献59

引证文献7

二级引证文献10

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