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注As或扩Sb埋层对硅外延淀积的影响

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作者谢明纲

出处《上海半导体》 1991年第2期19-22,45,共5页

关键词晶体管集成电路 AS 硅外延淀积

分类号 TN431.05 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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上海半导体

1991年第2期

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