双层金属工艺中的介质
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3黄卫.φ125mm圆片1μm PCM参数测试技术[J].微电子技术,1996,24(4):46-57. 被引量：1
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4张义强.亚微米CMOS工艺设计中的几点考虑[J].微电子技术,1995(4):59-63.
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