等离子体打膜在制掩膜版中的应用研究
-
1沈浩瀛,陶景欣,鲁武,顾宁.利用SEM进行高分辨率电子束曝光[J].固体电子学研究与进展,1993,13(3):274-275.
-
2张沛,熊启龙.铬掩膜版与平板显示[J].世界产品与技术,2000(8):46-47.
-
3刘明,陈宝钦,梁俊厚,李友,徐连生,张建宏,张卫红.电子束曝光技术发展动态[J].微电子学,2000,30(2):117-120. 被引量：12
-
4罗腾蛟.电子束曝光技术的进展及其优越性[J].红讯半导体,1989(3):37-40.
-
5EUV掩膜版的等离子刻蚀法[J].电子工业专用设备,2010(10):56-56.
-
6白杉.我国光掩模发展的过去和现状[J].中国集成电路,2004(1):65-66. 被引量：1
-
7李其忠,刘志存,陈惠萍.选择电子束最佳曝光剂量的一种简便方法[J].微细加工技术,1991(2):36-40.
-
8王国荃,罗腾蛟,陈福余,李忠涛,徐志如.影响电子束曝光机加工微细化的因素[J].微细加工技术,1991(2):15-19. 被引量：1
-
9彭力,赵丽新.电子束直写圆片技术[J].微电子技术,1999,27(4):4-8. 被引量：1
;
