摘要
运用自洽的蒙特卡罗方法模拟了肖特基接触的隧穿效应 .模拟的内容包括具有不同的势垒高度的金属 -半导体接触在正向和反向偏置下的工作状态 .分析模拟结果可知 ,隧穿电流在反向偏置下起主要的作用 .同时还模拟了引入肖特基效应后 ,SBD的工作特性 ,验证了模拟使用的物理模型 .得到了与理论计算值符合的模拟结果 .分析模拟结果表明 ,由于肖特基效应形成的金属 -半导体接触势垒的降低 ,会在很大程度上影响金属
Considering the tunneling effect and the Schottky effect,the metal semiconductor contact is simulated by using self consistent ensemble Monte Carlo method.Under different biases or at different barrier heights,the investigation into the tunneling current indicates that the tunneling effect is of great importance under reverse biases.The Schottky barrier diode current due to Schottky effect is in agreement with the theoretical one.The barrier lowering is found a profound effect on the current transport at the metal semiconductor interface.
