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Cu-Ni/Zn催化剂甲醇裂解机理原位XPS研究 被引量:12

In-situ XPS Study for Reaction Mechanism of Methanol Decomposition over Cu-Ni/Zn Catalyst
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摘要 利用原位XPS和TPD-MS技术研究了Cu-Ni/Zn催化剂在甲醇裂解反应中的机理和活性中心.TPD-M脱附产物中仅检测到CH3OH、H2和CO,而未发现CH4和CH3OCH3、HCOOCH3等其它含氧物种,说明在CH3O裂解过程中仅包括O-H、C-H键的断裂,而不存在C-O键的断裂过程.In-situXPS的研究发现,在反应温度升高到200℃以上时,Cu/Zn催化剂中的Zn明显被还原,反映出Cu/Zn催化剂失活过程的Cu-Zn合金生成过程,而在Cu-Ni/Zn催化剂中未观察到Zn的还原,且表面出现Cu+/Cu0共存的现象.Cu+和Cu0很可能共同构成催化剂表面的活性中心,Cu+应该是在甲醇裂解反应过程中形成的中间态.产物氢从Cu-Ni/Zn催化剂表面脱附为反应的控速步骤. In-situ XPS and TPD-MS techniques were used to study the reaction mechanism and the active center of Cu-Ni/Zn catalyst for methanol decomposition. Significant amount of CH3OH, H-2 and CO were detected during the methanol decomposition with TPD-MS, however no evidences of CH4, CH(3)OCHs and HCOOCH3 formation were obtained. TPD-MS results indicated that O - H and C - H bonds instead of C - O bond were broken in methanol decomposition on Cu/Zn/Ni catalyst. It was found that H-2 desorption from the surface of Cu-Ni/Zn catalyst was the rate control step, In-situ XPS studies confirmed that the Zn species was easily reduced when temperature was higher than 200 degreesC in Cu/Zn catalyst. However, similar reduction of Zn was not observed in Cu/Zn/Ni catalyst. Furthermore, both Cu+ and Cu-0 species were observed in Cu/Zn/Ni catalyst. Our study indicated that active center(s) in Cu/Zn/Ni catalyst may be Cu-0 and/or Cu+ species, in which Cu+ formed during the reaction.
出处 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第1期82-86,共5页 Acta Physico-Chimica Sinica
基金 国家重点基础研究发展规划资助项目(G20000264)~~
关键词 甲醇 裂解 氢气 Cu-Ni/Zn催化剂 原位-XPS 反应机理 活性中心 铜-镍/锌催化剂 methanol decomposition hydrogen Cu-Ni/Zn catalyst in-situ XPS reaction mechanism active center
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二级参考文献16

  • 1刘世宏,X射线光电子能谱分析,1988年
  • 2匿名著者,光电子能谱及其在催化中的应用,1987年
  • 3桂琳琳,物理化学学报,1985年,1卷,3期,222页
  • 4桂琳琳,中国科学.B,1985年,6期,509页
  • 5江绍猷,石油化工,1978年,7卷,2期,156页
  • 6江绍猷,石油化工,1978年,7卷,3期,267页
  • 7Liu Y,Catal Lett,2000年,66卷,205页
  • 8Cheng W H,Acc Chem Res,1999年,32卷,685页
  • 9Shiozaki R,Catal Lett,1999年,58卷,131页
  • 10Cheng W H,Appl Catal A:General,1998年,170卷,215页

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