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K—He光学碰撞精细结构分支比的测定

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摘要 氩离子激光器514.5nm线激发光学薄的K蒸汽和低密度He的混合系统,得到KHe分子激发态,此激发态通过预离解,直接离解或碰撞离解,使K 4P1/2,4P3/2得到布居,同时发生精细结构碰撞转移K 4P1/2+He->K 4P3/2+He. 直径2.5 cm,长10 cm的K-He混合池为玻璃材料,高温烘烤,真空度10-4 Pa,充入少量金属K及密度约为2~8×1017 cm-3的He,池温保持在373 K,温度由热电偶测量,激光束直径约为0.5 cm,激光功率约200 mW,在垂直激光束方向检测KD1和D2线荧光,荧光聚焦在单色仪的狭缝上,经单色仪分光后进入被冷却的光电倍增管,光子计数器记录D1和D2线荧光信号,从而得到荧光强度比R. 对D1和D2线多次扫描,得到R的平均结果,描绘出(0.62-R)-1与He原子密度的实验结果,(0.62-R)-1与N确成线性关系,由此直线的斜率和截距,得到KHe分子常数B=0.53,转移截面σ12=6.1×10-15 cm2.(OA10)
作者 沈异凡
机构地区 新疆大学物理系
出处 《激光与光电子学进展》 CSCD 2001年第9期3-3,共1页 Laser & Optoelectronics Progress
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