期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

微细加工技术——光刻技术简介

下载PDF

导出

摘要随着信息时代的到来,信息高速公路、网络技术、移动通信技术和多媒体技术的飞速发展,促进了高集成度、超高速、超高频集成电路及器件的研制与开发,特征尺寸越来越细,加工尺寸进入深亚微米、百纳米以至纳米级.图1是新型计算机硬盘读头的平面示意图,其特征尺寸小于1微米.

出处《中国科技信息》 2001年第22期52-53,共2页 China Science and Technology Information

关键词微细加工技术光刻技术电子束曝光技术微电子工艺技术

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

121世纪初微电子技术展望[J].航空精密制造技术,1999,35(5):37-37.
2监视器[J].家教世界,2012(5):12-12.
3陈艺慧,郑高峰,孙道恒.声表面波射频识别技术及其发展[J].电子机械工程,2012,28(3):1-6. 被引量：5
4陈岩松.二元光学——九十年代的光学技术[J].量子电子学报,1992,13(1):43-44.
5曾耀德.高尺寸稳定性覆铜箔板[J].印制电路信息,2000(1):37-38.
6张怀武,杨仕清,王豪才.相互自偏屏蔽磁阻读头的设计和模拟[J].电子科技大学学报,1996,25(4):398-402.
7陆盘峰,魏少军.SOC设计方法学和可测试性设计研究进展[J].微电子学,2004,34(3):235-240. 被引量：6
8绝对式编码器[J].今日电子,2011(10):63-63.
9袁博鲁.一种新型的超高频低功耗预置分频器结构[J].微电子学,1997,27(3):206-209.
10肖兵,杨谟华,杨中海.Si──FEA冷发射微阴极阵列实验研究[J].电子科技大学学报,1996,25(6):614-616. 被引量：1

中国科技信息

2001年第22期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部