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含PbS量子点串联双隧道结I—V特性仿真

I-V Properties Simulation of PbS Quantum-dot's DBTJ
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摘要 对形成单电子器件的典型串联双隧道结结构模型 ,通过求解含时薛定谔方程 ,计算了PbS量子点自组装体系的隧穿电流与偏压的关系。给出了含PbS量子点串联双隧道结在室温下的I—V特性仿真数据 ,结果与实验符合得较好。 In this paper,the current voltage(I-V)properties of a standard double barrier tunneling junction,which forms single electron device,is simulated by solving the time dependent Schrodinger equation.The I-V simulating data of PbS quantum dot's DBTJ at room temperature is given.The numerically simulated results are in good agreement with the experimental results.
出处 《微电子技术》 2001年第6期8-10,共3页 Microelectronic Technology
基金 国家自然科学基金项目 (6 9890 2 2 7 6 99710 0 7)资助
关键词 量子点 串联双隧道结 薛定谔方程 I-V特性仿真 PBS Quantum dots Double barrier tunneling junction(DBTJ) Schrodinger equation Tunnel
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