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直流辉光等离子体助进热丝CVD法沉积金刚石薄膜 被引量：2

Study of Diamond Films Grown on Si(100)by Glow Plasma HFCVD
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摘要 采用直流辉光等离子体助进热丝 CVD的方法 ,低温 ( 5 5 0～ 6 2 0℃ )沉积得到晶态金刚石薄膜 .经X射线衍射谱、扫描电子显微镜及 Raman光谱分析表明 :稍高气压有利于金刚石薄膜的快速、致密生长 . The diamond films are deposited at low temperature (550～620℃)using glow plasma HFCVD(hot filament chemical vapor deposition).The samples morphology and structure properties have been analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction(XRD),and it is concluded that high pressure is the optimum condition for diamond films growth.
作者 韩佳宁 赵庆勋 文钦若 辛红丽
机构地区 河北大学物理科学与技术学院
出处 《河北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2002年第1期48-50,共3页 Journal of Hebei Normal University：Natural Science
基金 河北省自然科学基金资助项目 ( 5 990 91)
关键词 低温生长 金刚石薄膜 直流辉光等离子体助进热丝CVD法 沉积条件 X射线衍射谱 Raman方谱 CVD low temperature diamond
分类号 O484.1 [理学—固体物理] O728.9 [理学—晶体学]
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献8

  • 1王季陶，J Electrochem Soc，1994年，14卷，1期，278页
  • 2王季陶，Surface Coatings Technology，1990年，43/44卷，1页
  • 3Yang B X，J Cryst Growth，1995年，151卷，319页
  • 4杨国伟，高压物理学报，1995年，9卷，75页
  • 5吕反修，物理，1995年，24卷，606页
  • 6蒋翔六，Appl Phys Lett，1993年，62卷，3438页
  • 7Tzeng Y，Proceeding of the 1st International Conference on Applied Diamond，1991年
  • 8蒋翔六，金刚石薄膜研究进展，1991年，7页

共引文献15

同被引文献32

  • 1段春艳,郭鸿镇,姚泽坤,张维,虢迎光,王宝善.LD10热轧棒材的预处理工艺及超塑性[J].热加工工艺,2004,33(7):11-13. 被引量：4
  • 2王少刚,王蕾,顾荣海.表面阳极化铝型材焊接工艺研究[J].热加工工艺,2004,33(9):41-43. 被引量：2
  • 3张艳梅,潘俊德,李忠厚,徐重.金刚石薄膜用钢基表面过渡层研究进展[J].材料导报,2006,20(9):86-88. 被引量：3
  • 4陈光华,卢阳华.不锈钢衬底上沉积类金刚石薄膜的硬度[J].无机材料学报,1996,11(4):639-645. 被引量：5
  • 5黄元盛,邱万奇,罗承萍,刘宏伟,陈灵.钢渗铬层上金刚石薄膜的表面、界面结构及附着性[J].理化检验（物理分册）,2007,43(5):217-220. 被引量：2
  • 6Weiser P S, Prawer S, Hoffman A, et al. Carbon diffusion in uncoated and titanium nitride coated iron substrates dur- ing microwave plasma assisted chemical vapor deposition of diamond[ J ]. Journal of Applied Physics, 1992, 72 (10) : 4 643- 4 648.
  • 7Gowri M, Li H, Kacsich T, et al. Critical parameters in hot filament chemical vapor deposition of diamond films on tool steel substrates with CrN interlayer [ J ]. Surface and Coat- ings Technology, 2007, 201(8) : 4 601 -4 608.
  • 8Bareiss C, Perle M, Rosiwal S M, et al. Diamond coating of steel at high temperature in hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) employing chromium interlayer [ J ]. Diamond and Related Materials, 2006, 15 (4 - 8) : 754 - 760.
  • 9Fan Q H, Fernandes A, Gracio J. Diamond coating on steel with a titanium interlayer[ J]. Diamond and Related Materi- als, 1998, 7(2 -5) : 603 -606.
  • 10Silva F J G, Baptista A P M, Pereira E, et al. Microwave plasma chemical vapor deposition diamond nucleation on fer- rous substrates with Ti and Cr interlayers[J]. Diamond and Related Materials, 2002, 11(9):1 617 - 1 622.

引证文献2

二级引证文献2

河北师范大学学报（自然科学版）
2002年 第1期

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