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新技术可让金属铂“化身”半导体
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摘要
日本研究人员最新研究发现,金属铂制成只有2nm厚的超薄膜时,可以拥有类似硅等半导体的特性。研究人员认为,这一发现挑战了对于半导体材料的传统认知,有助于推动相关领域发展。
出处
《现代材料动态》
2019年第1期15-15,共1页
Information of Advanced Materials
关键词
半导体材料
金属
技术
铂
研究人员
超薄膜
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分类号
O614.826 [理学—无机化学]
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