摘要
在已报道的p-n2-n1结的势垒分布计算的基础上,对该结构的浓度分布进行了计算。对于正偏情形,计入了n2区产生的压降。考虑到GaP:NLED发光区主要在p区,注入效率γ=jn/(jn+jp),jn和jp分别为电子电流和空穴电流。p区内的少子扩散可视为向无限远处的一维扩散;n2区内外加正向偏压时电场不能忽略,空穴又被n2-n1结势垒阻挡(设被完全阻挡),则问题归结为求解有限厚度层中空穴的扩散和复合方程,由边界条件求出空穴扩散电流。将求出的电子扩散电流和空穴扩散电流代入注入效率的表达式即可求得γ。对在合理的参数值范围内的计算结果进行了讨论。分析表明:当n2值在1015~1016cm-3范围内时,注入效率较高,与实验结果基本相符。
The double-n layer structure is often used in GaP N green Light Emitting Diode (LED). It has been shown from experiment that decreasing the carrier concentration in the n2 layer can reduce the influences of impurities and defects, then improve the minority lifetime and the injection coefficient of the device. In this paper, the experimental result will be verified by using computer calculation with the parameters within a reasonable range.
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
2002年第2期114-118,共5页
Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays
基金
国家科委预研项目