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AlNxOy/Al高温选择性吸收膜热发射率的研究

STUDY OF AINxOy-AI HIGH TEMPERATURE SELECTIVE ABSORBING FILMS EMITTANCE BY LIGHT HEATING CALORIMETRIC TECHNIQUE
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摘要 本文报道了用光照非稳态法对反应磁控溅射制备的AlN_xO_y-Al太阳能高温选择性吸收膜半球向全发射率ε的研究结果,给出了从60℃至310℃区间的半球向全发射率数据。 This paper described the measaremeni of total hemi-spherical emittance of AlNxOy-Al for high temperature solar selective absorption films by magnetron sputtering.The results of hemispherical emittance of AlNxOy-Al films from 60℃ up to 310℃ are given.
出处 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第4期401-404,共4页 Acta Energiae Solaris Sinica
  • 相关文献

参考文献3

  • 1葛绍岩,热辐射性质及其测量,1989年
  • 2何梓年,太阳能学报,1985年,6卷,3期,307页
  • 3葛绍岩,金属及其它物质的热辐射性能表,1958年

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