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新型稀硫酸退铬工艺

A new process for stripping of chromium electrodeposit in dilute sulfuric acid solution
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摘要 提出了一种新型稀硫酸退铬工艺。探讨了其作用机理 ,分析了硫酸、添加剂。 A new stripping process of chromium electrodeposit in dilute sulfuric acid solution was advanced. Action mechanism of the process was investigated. Effect of sulfuric acid, additive, temperature and current density on stripping rate of chromium electrodeposit was discussed.
作者 曾宪雄
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2002年第2期13-14,共2页 Electroplating & Finishing
关键词 稀硫酸 退铬工艺 硫酸 添加剂 温度 电流密度 stripping of chromium dilute sulfuric acid
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