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用LIGA技术制作微马达构件
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摘要
阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了朱理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程,并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻,得到了深度为500μm,深宽比达8.3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时,对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。
作者
梁静秋
姚劲松
机构地区
中国科学院长春光学精密机械研究所
出处
《北京同步辐射装置年报》
1998年第1期220-223,共4页
关键词
微马达
LIGA技术
光刻
掩膜
电铸
同步辐射
X射线
分类号
TM38 [电气工程—电机]
TL99 [核科学技术—核技术及应用]
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北京同步辐射装置年报
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