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在氧化过程中微弧氧化覆层特性的变化
被引量:
1
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摘要
文献[1]在比较用独立法求得的实验数据的基础上,提出了微等离子体电击穿模型,按照该模型,覆层中等离子体通道的贯穿深度被因氧化而在金属表面上获得的半导体薄膜的空间电荷区所限制。该模型便于理解金属微弧氧化时在金属-薄膜-电解质分界面所进行的一些过程,以及可以阐明导致氧化过程中表面层性质变化的原因。
作者
赵树萍
机构地区
辽宁省日用电器研究所
出处
《国外金属热处理》
2002年第2期25-28,共4页
Heat Treatment of Metals Abroad
关键词
半导体薄膜
微弧氧化
氧化过程
表面层性质
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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Николаев А.В,идк.Новое Явение в Электролизе[J].Изв.CO AH CCCP.Cep.хнм.НАУК1977,5(12):32-33.
2
Черианко В.И,идк.Электрические Параметры Процесса Получеиия Силикатных Покрытий наАлюминии в режцме Искрового Заряда[J].Электронная обработка металлов металлов 1983,(2):25-28.
3
Delplanke J.L. Winand K. Galvanostatic Anodization of Titanium -Ⅱ Reactions Efficiencies and Electrochemical Behavior Model [Jl.Eleetrochem. acta. 1988, 33(11) : 1550 - 1551.
4
Гнеденко С.В.Формирование Покрытий на Титане Методом Микродугового Оксидирования,Их Состав и Свойства.Дис канд[M].ХИМ Наук Владивосток.1988,165.
5
Феттер К.Электричесхая Кинетика[M].M:Химия,1967;821.
6
Krysmann W, ect. Process Characteristic and Parameters of Anodic Oxidation by Spark Discharge[J] . Crystal. Res and Technol, 1984,19(7) :973 - 976.
7
Юнг Л.Анодные Оксидные Пленки[M].Л:Знергия,1967:232.
8
Попова Н.П,Столярова И.А.Химический Анализ Горных Пород и Минералов[M].M:Недра,1974,31.
9
Семченко Д.П,идк Квопросу Электолит ического Получения Оzона[J].Электротехника,1973,9(11):1744-1748.
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赵树萍.
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.中国有色金属学报,2024,34(5):1529-1540.
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国外金属热处理
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