SIMOX技术的现状

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摘要本文描述了在埋层氧化物上制备超薄Si膜的离子注入技术,并概述了这种优质材料在器件设计中的应用。

作者 Michael A.Guerra 李乾树

出处《微电子学》 CAS CSCD 1991年第4期41-44,共4页 Microelectronics

关键词 SIMOX 硅膜离子注入

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微电子学

1991年第4期

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