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强流离子注入均匀性控制

UNIFORMITY CONTROL OF HIGH CURRENT ION IMPLANTATION
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摘要 本文讨论了强流离子注入机的全机械扫描靶室中实现剂量高均匀性和高重复性注入的变速扫描设计原理及控制技术。 Design principles of speed change scanning and control techniques to realize high uniformity and high repeatability of implantation dose in full mechanical scanning target chamber of high current implantation system are discussed.
作者 徐道林
机构地区 机电部第
出处 《微细加工技术》 1991年第1期7-13,共7页 Microfabrication Technology
关键词 离子注入 均匀性 机械扫描 Ion implantation system Mechanical scanning Uniformity of implantation.
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