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高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子过程中一个基本规律的研究

ON A BASIC PRINCIPLE IN THE PROCESS EXTRACTING METAL IONS BY PLASMA CHEMICAL REACTION IN HF ION SOURCE
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摘要 高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子的过程中,总结出了一个基本规律——“氧化——还原——氧化”,“”—”—””,“”—”—””,……。利用此规律,解决了一批金属离子的引出问题。已引出的离子有:Re^+、W^+、Mo^+、Ta^+、Pt^+、Pd^+、Au^+、Ag^+、Nb^+、Ti^+、V^+、Cr^+、Ni^+、Fe^+、Cu^+、Zn^+、Ga^+、Ge^+、Se^+、Si^+、Al^+、Mg^+、Be^+、Li^+、Bi^+、In^+、Sn^+、Pb^+、Cd^+等和稀土离子Y^+、Nd^+、Ce^+、Sm^+、Tm^+、Dy^+、Gd^+、Er^+等。 A basic Principle in the process extracting metal ions by plasma chemical reaction in HF ion source is summarized: 'Oxidation-Reduction-Oxidation', “”-”-””,“”-”-””, .......Following the principle several metal ions extaction could be realized.The ions extracted are Re+, W+, Mo+, Ta+, Pt+, Pd+, Au+, Ag+. Nb+. Ti+, V+, Cr+, Ni+, Fe+, Cu+, Zn+, Ga+, Ge+, Se+, Si+, Al+, Mg+, Be+, Li+, Bi+, In+, Sn+, Pb+, Cd+ etc.and rare earths ions Y+, Nd+, Ce+, Sm+, Tm+, Dy+, Gd+, Er+ etc.
出处 《微细加工技术》 1991年第1期31-36,共6页 Microfabrication Technology
基金 国家自然科学基金支持
关键词 高频离子源 等离子体 金属离子 HF Ion source Plasma chemical reaction Metal ion extraction Oxidation-Reduction.
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