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化学束外延

CHEMICAL BEAM EPITAXY
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摘要 本文介绍了化学束外延(CBE)的发明和发展,论述了CBE的原理和设备。文中还介绍了最近提出的一种生长机理。 Investigations and applications of CBE are introduced. Also included is a description of the principles and equipment of CBE,along with the new growth mechanism
作者 谢诗菁
出处 《微细加工技术》 1991年第2期72-75,共4页 Microfabrication Technology
关键词 化学束外延 化合物半导体 薄膜 Film growth CBE(Chemical Beam Epitaxy)
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